| 设备名称与型号 | 紫外臭氧清洗机 PCE-22-LD （科晶实验室、科晶技术部2022.6.17审核） |
| 产品特点 | · 仅室内使用；海拔高度5500英尺以内； · 温度范围：5-40℃； · 最大相对湿度80%，最高30.5℃，40℃线性降至50%相对湿度； · 主电源波动不超过额定电压的10%； · 污染等级2；臭氧水平（环境）测量＜45ppb · 去除分子级别的污染物 · 清洗MEMS器件 · 清洗各种基片，如si,Ge,GaAs和各种氧化物单晶基片 |
| 基本参数 | · 电源：AC 220V 50HZ/60hz · 功率：最大1000W（加热功率为800W） |
| 腔体＆样品台 | · 不锈钢壳体 · 抽屉式样品台，以便放样取样（如下图1） · 基片台尺寸：310mm*320mm · 臭氧通风装置安装在腔体上 · 样品台与紫外灯的距离：20mm-40mm范围内可调（图2） · 样品台可以加热，最高温度可达150℃ · 可设置8段升降温程序，控温精度为+/-1℃ · 照射设定时间：1min-9999min
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| 触摸屏＆加热 | · 一个4.5英寸的触摸屏控制设备的加热以及清洗功能 · 点击触摸屏上的“温控程序”即可进入程序设置界面，内置温控仪表采用PID方式调节，可设置30段升温程序，设备只显示8段升温程序，可根据实际要求进行添加 · 设备加热前需进行预热处理
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| 排气口 | · 直径为80mm的排气口安装在仪器后端 · 请将铝波纹管与排气口连接，将臭氧排出到实验室外 · 橡胶管长度8米
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| 紫外灯 | · UV灯管：210W · 功率：55W · 发出光的波长：254nm和185nm · 照射区域：200*200mm · 可以清洁直径最大为12英寸×35mm的晶体晶片
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| 设备外形尺寸 | 550mm（L）*520mm（W）*335mm（H）
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| 净重 | 约30KG |
| 质保 | 一年保修，终身技术支持 |
使用注意事项 | · UV装置应由工矿企业、院校等相关专业人员操作或指导使用。 · 严禁用眼睛直接看点亮中的UV灯管，否则会对眼睛造成伤害，非常危险。 · O3臭氧是刺激性臭及强氧化性的气体，对身体有害。应将装置产生的臭氧利用排气管道将其排向室外。 · 应避免在高温、多湿、多尘、腐蚀气体、酸碱性等的环境中使用。 · 为保护生命，请务必连接接地线，并保证可靠。 · 清扫等作业时必须先将电源切掉。 · 未经许可不可对本装置进行改造或加工，本公司一概不负对已改造、加工设备的责任。 |
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皖公网安备 34012302000974号